科茂提升PCB产能 成功研发垂直湿制程设备

时间:2007-11-09  作者:unionblog

  发展PCB自动化生产设备的科茂科技公司,累积多年经验,研发成功AVP垂直湿制程设备,这是一款适合PCB内、外层板显影、蚀刻、剥膜、水洗、烘干等一贯化制程的专用机,可协助PCB业提升生产良率。

  科茂科技公司董事长郭明宏表示,由于高密度、厚铜与细线路电路设计大量应用到电子产业,使PCB业者对显影、蚀刻等相关制程控管与良率提升的需求更加迫切,其中又以「水池效应」(puddling)的克服问题最受瞩目。

  为改善传统设备无法应付新制程的要求及克服puddling的瓶颈,美国VCM公司率先在1988年推出垂直式湿制程设备,以改善水平机产生的水池效应困扰。后续有美国CCE厂商研发的VIP设备,发展迄今已10余年,甚至目前日本生产BGA、FLIP CHIP、CSP的工厂也都采用垂直式显影、蚀刻设备,经效效益受到肯定。

  基本上,国外的PCB量产结构与台湾以大量生产方式不同,加上设备的传送机构不稳,故垂直式制程设备迟迟未能引进台湾。另外,因台湾与国外一般水平机为克服水池效应,大多采用喷管独立调整压力或单面蚀刻等不同方式生产,容易产生机构设计复杂、控管不易的问题,加上国外垂直设备价格昂贵,不适合台湾PCB生产型态,徒增业者扩充产能的困扰。科茂科技公司研发的垂直湿制程设备,不但无水池效应,且药液反应均匀,可蚀刻细线路,加上药液反应快,生产力比水平式高约15%至25%。因为药液带出量少,省水又环保。

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